中国在芯片制造领域一直在追赶先进的技术，虽然在一些关键技术方面还存在一定差距，但近年来中国在光刻机领域取得了一些进展，下面将详细介绍中国目前最先进的光刻机是多少纳米。

什么是光刻机?光刻机是集成电路制造过程中的核心工具之一，它使用特定波长的光线将芯片上的图形投影到硅片上，从而进行微细加工。其分辨率是影响芯片制造工艺的一个重要参数。光刻机的分辨率越高，制造出的芯片就越精细，性能也越好。

目前世界上最先进的光刻机是ASML公司生产的EUV(极紫外)光刻机，采用的是13.5纳米波长的光源，其分辨率已达到了7纳米。EUV光刻机是目前半导体工业制造7纳米以上芯片的必备设备。然而，由于其技术难度极高，价格昂贵，目前只有少数几家公司生产。

中国在光刻机领域也有不少企业，比如中微公司、微创光电、九洲电子等，但目前仍没有企业能够生产13.5纳米波长的EUV光刻机。不过，中国在2018年完成了一台采用193纳米光源的ArF光刻机，其分辨率达到了22纳米，可以用于制造22纳米及以上的芯片。这台光刻机由中微公司、上海微电子装备和中国电子科技集团等企业联合研制，被认为是中国半导体产业发展的一个重要里程碑。

综上所述，中国最先进的光刻机是22纳米，尽管中国在EUV光刻机方面已经取得了一定进展，但其量产和商业化进程仍然较为缓慢，未来随着中国技术的高速发展，相信中国很快也能生产7纳米的光刻机。